PECVD多通道质量控制高真空管式炉系统
为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）。虽环境温度在100-300℃，但反应气体在辉光放电等离子体中能受激分解，离解和离化，从而大大提高了反应物的活性，这些具有反应活性的中性物质很容易被吸附到较次温度的基本表面上，发生非平衡的化学反应沉积生成薄膜。科晶公司提供定制质量可靠、价格合理的紧凑型PECVD系统。|
开启式管式炉 |
工作温度 |
1200℃ |
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炉管尺寸 |
Φ50，Φ60，Φ80都可用 |
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温度控制器 |
30段高精度数字可编程温度控制器 |
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加热区长度 |
440mm |
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恒温区长度 |
150mm |
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功率 |
AC 220V 4KW |
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等离子射频电源 |
输出功率 |
50-500W最大可调±1%的稳定性 |
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RF频率 |
2-150MHz的±0.005%稳定可调 |
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噪声 |
≤55DB |
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冷却 |
空气冷却 |
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输入功率 |
1KW AC 220V |
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真空泵和阀门 |
s 采用KF25系列波纹管和精密球阀连接 s 真空度可达10-3torr s 数字真空压力表可直观的显示数值 |
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质量流量计 |
s 内部装有高精度数字显示质量流量计可准确的控制气体流量 s 气体流量范围为0-200 误差为0.02% s 一个气体搅拌罐上安装了液体释放阀的底部情况 s 不锈钢针阀安装在左侧可手动控制混合气体输入的数量 s 进气口：采用国际标准双卡套接头 |
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炉体 |
550*380*520mm |
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供气及真空系统 |
600*600*597mm |
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净重 |
120KG |
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