1200℃ 4温区坩埚可移动型管式炉
OTF-1200X-IV -HPCVD是一款堪氓可在炉管内移动(靠步进电机控制)的4温区管式炉，所有电器元件都通过了UL/MET /CSA认证。炉管外径为50mm,设备最高工作温度为1200℃，每个温区长度为100mmL,每个温区由独立的温控系统控制，都可设置30段升降温程序，控温精度为+/-1℃。通过触摸屏数字控制器控制样品台或绀娲在炉管内的位置和温度。此设备可进行快速热处理，例如混合物理化学沉积(HPCVD)，快速热蒸发(RTE)，以及在各种气氛下进行的水平布里奇曼晶体生长(HDC)，用于新一代晶体研究。|
最高温度 |
1200℃(≤30min） |
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工作温度 |
1100℃ |
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推荐升温速率 |
≤10℃/min |
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加热区长度 |
总长度400mm，每个加热区长度100mm |
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加热元件 |
掺钼铁铬铝合金 |
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电压 |
220V |
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最大功率 |
3.5KW |
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温控系统 |
采用PID方式调节温度，可设置3O段升降温程序·温控仪表中带有过热和断偶保护 |
