PECVD多通道质量控制高真空管式炉系统

为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)。虽环境温度在100-300℃,但反应气体在辉光放电等离子体中能受激分解,离解和离化,从而大大提高了反应物的活性,这些具有反应活性的中性物质很容易被吸附到较次温度的基本表面上,发生非平衡的化学反应沉积生成薄膜。科晶公司提供定制质量可靠、价格合理的紧凑型PECVD系统。

开启式管式炉

工作温度

1200

 

炉管尺寸

Φ50,Φ60,Φ80都可用

 

温度控制器

30段高精度数字可编程温度控制器

 

加热区长度

 440mm

 

恒温区长度

 150mm

 

功率

AC 220V 4KW

等离子射频电源

输出功率

50-500W最大可调±1%的稳定性

 

RF频率

2-150MHz的±0.005%稳定可调

 

噪声

55DB

 

冷却

空气冷却

 

输入功率

1KW  AC 220V

真空泵和阀门

采用KF25系列波纹管和精密球阀连接

真空度可达10-3torr

数字真空压力表可直观的显示数值

质量流量计

内部装有高精度数字显示质量流量计可准确的控制气体流量

气体流量范围为0-200 误差为0.02%

一个气体搅拌罐上安装了液体释放阀的底部情况

不锈钢针阀安装在左侧可手动控制混合气体输入的数量

进气口:采用国际标准双卡套接头

炉体

550*380*520mm

供气及真空系统

600*600*597mm

净重

120KG

销售热线:15222560868
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